标准立项，技术突破，国产率为0的EUV光刻胶迎来拐点
EUV光刻胶，这个长期被视为半导体制造关键瓶颈的领域，近期迎来了新的节点。
就在北大彭海琳教授团队做出重大技术突破之后，国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司。
这标志着中国在这一高端材料领域，迈出了从研发到标准化的关键一步。
这一消息的意义不止于“立项”两个字。它是中国半导体材料体系补齐“最后一环”的象征。过去，我们常聚焦EUV光刻机，却忽略了同样重要的材料——光刻胶。实际上，光刻胶决定了晶圆图形能否精确转移，是高端芯片制造不可或缺的一环。
但长期以来，光刻胶的国际市场长期被日本等少数国家所把持，国内需求长期要靠进口满足，在当下国际经济环境下，这大大影响了国内芯片行业的安全。
如今，接二连三的好消息传来，这一“无形涂层”也终于迎来其里程碑时刻。
现状：EUV光刻胶国产化为0%
长期以来，国内光刻胶研发成果缺乏统一的验证框架，各方测评口径不一，难以形成可比数据。一旦标准确立，行业将拥有共同的“量尺”，为产业链沟通与合作创造前提条件。
目前公开资料显示，这将成为国内首个EUV光刻胶相关标准，为后续产品测试、质量验证及供应链协同提供依据。
过去三年，中国光刻胶研发持续推进，ArF、KrF光刻胶实现突破，一些研究机构也在EUV光刻胶基础研究上取得进展。但由于缺少标准体系，这些成果难以统一评估，也难以进入量产验证流程。
如今立项，反映出产业链“具备条件”的信号。随着上游材料、测试机构、设备厂商的逐步完善，中国光刻胶行业已具备构建标准体系的基础。标准立项本身，也是一种战略性布局。
在EUV光刻机仍未广泛部署的阶段，提前建立测试标准，有助于国内企业在未来设备引入时实现快速适配，减少重复验证成本。这是一种“先定义规则，再参与竞争”的主动姿态。
长期以来，日本企业占据全球光刻胶市场主要份额，在g线/I线、KrF、ArF、EUV光刻胶市场中，日本企业的市占率分别为61%、80%、93%、100%。全球EUV光刻胶市场主要由日本厂商主导，JSR、东京应化、信越化学等企业主导。
公开报道指出，国内EUV光刻胶仍处于实验室研究阶段，国产化率为0%！
国内光刻胶企业近年来快速投入研发，在ArF及更高端领域不断取得进展。多家高校、科研机构与企业正在攻关EUV光刻胶的关键化学材料体系，包括树脂、光酸发生剂与添加剂等部分环节。部分项目已完成小批量样品验证，初步具备基础性能测试能力。
虽然尚未形成产业化生产，但趋势已经显现：从“项目分散”到“标准统筹”，中国光刻胶研发正逐步走向体系化。这次标准立项，正是体系建设的起点。
国内光刻胶行业正在发生怎样的变化？
近年来，国内多家科研机构在EUV光刻胶材料基础研究中取得阶段性成果。部分研究聚焦于分子结构稳定性、抗污染性能、低残留特性等关键参数；也有机构尝试本地化开发光酸发生剂等核心原料。
这些研究多处于验证或小样阶段，尚未进入商业化量产，但从学术论文和企业公告看，国内EUV光刻胶的性能正逐步接近国际先进水平。
虽然具体指标和稳定性仍需进一步验证，但整体研发方向已形成合力。从“能研制”到“可验证”，从“单点突破”到“体系完善”，中国光刻胶的研发路径正在变得清晰。
企业端正在成为光刻胶创新的主力军。部分厂商已与科研机构共建实验平台，针对不同工艺节点开展材料兼容性测试。另有材料企业投入EUV配方体系研究，探索全链条协同的本地化路线。
EUV光刻胶的研发涉及底涂层、显影液、抗反射涂层等多环节，需多方协作才能形成稳定体系。因此，本次标准立项聚焦“测试方法体系”，并不只是制定一份检测标准，而是推动各环节形成兼容框架。
挑战：从立项到落地，仍需验证
EUV光刻胶标准的立项只是开端。它还需经历技术验证、设备适配与企业测试三个阶段。EUV曝光设备数量有限，验证平台集中在少数科研机构，短期内难以支撑大规模产业测试。
因此，从标准到应用，仍需时间沉淀。此外，EUV光刻胶体系复杂，标准验证需在多重条件下进行反复比对。这决定了行业短期难以看到“爆发式成果”，但长期价值极高。
EUV光刻胶标准立项不仅是技术事件，更是产业生态的里程碑。它意味着中国第一次在这一核心材料领域，具备了自主定义测试方法的能力。
过去，国内光刻胶行业依赖进口数据体系，材料验证受制于海外标准。如今，标准立项让中国拥有自主评估与认证的基础，也为未来与国际标准接轨创造条件。
从产业层面看，这一标准的确立，将促进上游材料、下游晶圆厂和检测机构之间的协同，加速国内光刻胶体系走向成熟。从技术层面看，它让研发成果不再停留在实验室，而能通过标准化路径进入工程化测试。
可以说，EUV光刻胶标准立项，不会立即带来产业格局的改变。但它是一项必须迈出的基础工程。
它让中国光刻胶行业第一次有机会，以自己的标准体系定义未来的技术路径。
在全球科技竞争加速的当下，标准不只是规范，更是争夺话语权的开始。